專利名稱
三靶磁控共濺射製備鋁-銅-鐵準晶塗層的方法及其應用
專 利 號
ZL200810204439.0
部 門
材料工程學院
發 明 人
周細應
授權日期
2010-12-15
摘 要
本發明涉及磁控共濺處理表面材料的技術領域,具體地說是一種三靶磁控共濺射製備鋁—銅—鐵準晶塗層的方法及其應用,其特征在於:磁控共濺射中采用AL靶、CU靶和FE靶三種靶材同時進行磁控濺射;磁控共濺射工藝參數為:AL靶濺射功率為116-125W、CU靶濺射功率為12-13W、FE靶濺射功率為30-38W👨🏼、背底真空度為1.5×10-4PA,充入AR氣後工作氣壓為2.0PA,基底負偏壓為-120V,基底溫度為550℃,濺射60MIN🦋。本發明與現有技術相比,準晶塗層的硬度高,摩擦系數低,耐磨及抗高溫氧化性能好,鍍層組織均勻和致密,塗層附著力高;采用磁控濺射方法有利於控製合金靶材的成分,勿需經過退火熱處理。
