專利名稱
一種磁控濺射裝置的可旋轉樣品位
專 利 號
ZL200910194429.8
部 門
材料工程學院
發 明 人
劉延輝
授權日期
2011-03-30
摘 要
本發明涉及磁控濺射鍍膜裝置技術領域。一種磁控濺射裝置的可旋轉樣品位,包括磁控濺射裝置及配置在裝置中的磁控濺射靶(10),呈圓環形的絕緣底板(7)套置在磁控濺射靶(10)底部,在絕緣底板(7)上安裝若幹垂直滾動的滾動軸承(6),滾動軸承(6)支撐一個水平配置旋轉的大齒輪(3),大齒輪(3)的上方配置筒式的支撐管(4),支撐管(4)的頂部為樣品位(5),大齒輪(3)的外側與水平配置的小齒輪(1)嚙合,小齒輪(1)由電機(2)驅動。本發明實現了樣品在磁控濺射的過程中均勻平穩旋轉的動作,提高薄膜成分和厚度的均勻性,且本裝置結構簡單,操作使用保養維護方便,不需要增加復雜而精密的硬件和相應的控製軟件,降低了磁控濺射設備的設計難度和製造成本🪠。
